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當前位置(zhi)：首(shou)頁技(ji)術(shu)文(wen)章塵(chen)埃(ai)粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)法(fa)檢(jian)漏(lou)的規(gui)定(ding)有(you)哪(na)些

塵埃(ai)粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)法(fa)檢(jian)漏(lou)的規(gui)定(ding)有(you)哪(na)些

更(geng)新時(shi)間(jian)：2017-10-12

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　　用(yong)塵(chen)埃(ai)粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)對(dui)進(jin)行檢(jian)漏(lou)的方(fang)法(fa)是(shi)現(xian)在常(chang)用的(de)方(fang)法(fa)之(zhi)壹，比(bi)較直觀實(shi)用(yong)，現(xian)給大家(jia)介(jie)紹用(yong)塵(chen)埃(ai)粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)對(dui)過濾器(qi)進(jin)行檢(jian)漏(lou)的方(fang)法(fa)-過濾器(qi)生(sheng)產廠家(jia)推薦方(fang)法(fa)及(ji)標準(zhun)：用(yong)大氣(qi)塵(chen)為(wei)塵源(yuan)與粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)配(pei)合，對過濾器(qi)作(zuo)檢(jian)漏(lou)檢(jian)查。打開(kai)風機(ji)，在離(li)過濾器(qi)表(biao)面(mian)25mm處采用塵埃(ai)粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)掃(sao)描檢(jian)測，掃描速(su)度為(wei)5mm-30mm/s，檢(jian)測出(chu)0.5μm的微(wei)粒(li)數(shu)不得(de)超(chao)過3500粒(li)/m3.標準(zhun)是(shi)百級(ji)的(de)，註意(yi)采取樣量呀，5.66L國家(jia)標(biao)準(zhun)。

　　空(kong)氣塵(chen)埃(ai)粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)是(shi)測試空(kong)氣(qi)塵(chen)埃(ai)粒(li)子顆(ke)粒(li)的粒(li)徑(jing)及(ji)其分(fen)布的(de)儀器(qi)，由(you)顯微(wei)鏡發展而(er)來(lai)，經歷(li)了(le)顯微(wei)鏡、沈降管(guan)、沈(chen)降儀、離(li)心沈(chen)降(jiang)儀、顆(ke)粒(li)計數(shu)器(qi)、激光(guang)空(kong)氣(qi)塵(chen)埃(ai)粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)、PCS納米激光(guang)空(kong)氣(qi)塵(chen)埃(ai)粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)的(de)過程(cheng)，其中因激光(guang)空(kong)氣(qi)塵(chen)埃(ai)粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)測試速(su)度快(kuai)、動態分(fen)布寬(kuan)、不受人(ren)為(wei)影響(xiang)等(deng)各方(fang)面(mian)的優(you)勢，而(er)成為(wei)近年來很多行業的主流產品(pin)。

　　無塵(chen)潔凈(jing)室(shi)過濾器(qi)塵(chen)埃(ai)粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)法(fa)檢(jian)漏(lou)的壹般(ban)規(gui)定(ding)：

　　（1）被(bei)檢(jian)過濾器(qi)必(bi)須已測過風(feng)量，在設計風速(su)的(de)80%～120%之(zhi)間運(yun)行。

　　（2）在被(bei)檢(jian)過濾器(qi)上(shang)風側(ce)測定(ding)大氣(qi)塵(chen)的微(wei)粒(li)數(shu)，以(yi)大於或等(deng)於0.5μM微(wei)粒(li)為(wei)準(zhun)，其濃度必(bi)須(xu)大於或等(deng)於3.5×`10^4`粒(li)/L;若檢(jian)測超(chao)過濾器(qi)，則(ze)以大於或等(deng)於0.1μM微(wei)粒(li)為(wei)準(zhun)，其濃度必(bi)須(xu)大於或等(deng)於3.5×`10^6`～3.5×`10^7`粒(li)/L。

　　（3）若上(shang)風側(ce)濃度不符合上(shang)項規(gui)定(ding)，則(ze)應引(yin)入(ru)不經過濾的(de)空(kong)氣(qi)，如(ru)果還達(da)不到規(gui)定(ding)，則(ze)不宜用(yong)塵(chen)埃(ai)粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)法(fa)檢(jian)漏(lou)。

　　（4）塵埃(ai)粒(li)子計(ji)數(shu)器(qi)檢(jian)漏(lou)時將采樣口(kou)放(fang)在距(ju)離(li)被檢(jian)過濾器(qi)表(biao)面(mian)2～3CM處，以(yi)5～20MM/S的速(su)度移動，對(dui)被檢(jian)過濾器(qi)整(zheng)個(ge)斷面(mian)、封頭(tou)膠和(he)安裝(zhuang)框(kuang)架處進(jin)行掃描(miao)。